WO3/g-C3N4复合光催化剂制备及其可见光催化性能

作者：黄有鹏; 吴福礼; 李兵; 杨本宏^*

来源：复合材料学报, 2021, 38(12): 4265-4272.

DOI：10.13801/j.cnki.fhclxb.20210303.001

• WO3/g-C3N4
• 复合半导体
• 罗丹明B
• 光催化降解
• 纳米片

将自制层状石墨相氮化碳(g-C3N4)和WO3纳米片均匀混合,经煅烧制备WO3/g-C3N4复合半导体。利用XRD、SEM、TEM、UV-Vis DRS和PL对其进行表征。结果表明,g-C3N4呈现类石墨烯状片层结构,WO3为纳米片状结构,且分散在g-C3N4表面;与WO3复合后,UV-Vis吸收边发生了红移,拓宽了g-C3N4对可见光的响应。以罗丹明B(RhB)为模拟污染物,考察WO3/g-C3N4的光催化降解性能。WO3/g-C3N4质量比为1∶5时,表现出最佳的光催化活性,可见光照60 min后,RhB降解率可达到94.9%。光催化剂具有良好的稳定性,重复使用6次后,RhB的降解率依然达到88.9%。光催化机制研究表明,超氧自由基(·O2-)是光催化降解RhB的主要活性物种。

• 单位
  合肥学院; 材料与化工学院