电子束自动扫描SiO_2材料沉积速率控制实验研究

作者：王宁; 魏朝阳; 邵建达; 范正修; 易葵

来源：中国激光, 2010, (10): 2615-2619.

• 薄膜
• 薄膜工艺
• 自动扫描
• 沉积速率控制 thin films
• film technique
• auto-sweeping
• deposition rate control

沉积速率是电子束蒸发制备光学薄膜的重要工艺参数之一,影响着成膜的微观结构和化学成分,从而对薄膜的光学性质和机械性质都产生很大的影响。SiO2材料是制备光学薄膜的主要低折射率材料之一,由于其导热性很弱,并且以升华的方式进行蒸发,因此在蒸发过程中表面会出现凹坑,影响其蒸发特性,不利于沉积速率的稳定。考虑到SiO2材料的蒸发特性,进行了电子束自动蒸发SiO2材料沉积速率控制实验,利用设计的扫描控制仪,采用设计的路径进行焦斑自动扫描,在扫描过程中采用比例-积分-微分(PID)闭环反馈法对沉积速率进行控制,实验结果表明,通过控制可以得到良好的材料表面特性和较稳定的沉积速率。

• 单位
  中国科学院; 中国科学院大学; 中国科学院上海光学精密机械研究所