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摘要
为了解铝阳极氧化膜的吸附性能对制备14C大面积平面源的影响，研究不同厚度(4～12μm)的铝氧化膜对14C的吸附效率，吸附槽中溶液的量对14C的吸附效率、平面源均匀性的影响，以及14C溶液比活度对吸附率的影响，并对研制的14C平面源进行均匀性、牢固性检测，以及发射率定值。结果显示，研制的14C平面源(100 mm×150 mm)均匀性<10%,牢固性<0.01%;使用2πα、2πβ表面发射率标准装置测量14C平面源，坪区达到400 V,每100 V坪斜为0.3%,小能量损失修正因子为0.2%;测量不确定度为2%(k=2)。研制的14C平面源技术参数满足相关平准源标准的要求。
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