基于体素的形态学分析唇腭裂患儿脑结构特征

作者：谢娜; 杨峰; 干芸根; 束煌; 向葵; 林飞飞

来源：中华生物医学工程杂志, 2010, 16(4): 363-366.

DOI：10.3760/cma.j.issn.1674-1927.2010.04.019

• 唇裂
• 腭裂
• 磁共振成像
• 体素
• 中枢神经系统

目的 采用基于体素的形态学分析(VBM)方法探讨唇腭裂患儿脑结构特征.方法 在1.5 T磁共振扫描仪上采集数据,运用优化VBM方法比较10例唇腭裂患儿及10例正常对照婴幼儿的脑结构.对2组婴幼儿的灰白质密度和体积进行基于体素的双样本t检验,对比结果采用国际通用的统计参数图(SPM)表示,分析唇腭裂患儿大脑灰质密度及体积异常区域分布特征及其临床意义.结果 唇腭裂组的灰质体积在属于额上回的双侧前额叶内侧显著低于正常对照组(差异团簇体积体素个数:5220、4871,团簇水平校正后P值均小于0.05),灰质密度在左侧颞上回显著高于正常对照组(体素水平校正后P值小于0.05),脑白质密度和体积均无显著性的差异.结论 唇腭裂患儿与听觉及认知有关的皮层可能异于正常婴幼儿,应对此类患儿进行中枢听觉处理功能及认知功能的早期检查和早期干预.

• 单位
  深圳市儿童医院