缓冲层对溶胶凝胶制备ZnO∶Sn薄膜性能的影响

作者：范建彬; 胡跃辉; 陈义川; 胡克艳

来源：人工晶体学报, 2016, 45(02): 558-562.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2016.02.060

• 溶胶凝胶
• Sn掺杂ZnO薄膜
• 缓冲层
• 光电性能

采用溶胶凝胶旋涂法,在石英衬底上引入缓冲层制备ZnO∶Sn薄膜。利用四探针电阻率测试仪、X射线衍射仪(XRD)、光致发光(PL)谱仪、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)等测试手段对薄膜的微观结构和光电性能进行表征。结果表明:所制样品均呈现六角纤锌矿晶体结构并沿C轴择优生长,薄膜的结晶质量和光电性能达到改善,适当厚度的缓冲层可以有效缓解薄膜和衬底间的晶格失配。随着缓冲层厚度的增加,薄膜的电导率以及在可见光范围的透过率先增大后减小。制备两层缓冲层薄膜性能最优,电阻率达到9.5×10-3Ω·cm,可见光波段的平均透过率为91%。

• 单位
  景德镇陶瓷大学; 电子工程学院