磁流变抛光D型去除函数创成机制数值分析

作者：杨航; 谢涛; 赵功; 贾阳; 何建国; 黄文

来源：武汉理工大学学报, 2021, 43(06): 89-94.

• 数值计算
• 磁流变抛光
• D型去除函数
• 创成机制
• 数值分析

磁流变抛光技术是超精密光学元件制造的最终工艺环节。为了进一步研究在磁流变抛光过程中,当工件的嵌入深度不同时,其去除函数对抛光区域内磁流变抛光液的压力、速度、密度的影响,作者通过开展数值计算对相关参数进行试验、分析,探明了在磁流变抛光过程中,其加工工件的嵌入深度不同对磁流变抛光液的压力、速度、密度的影响机制,得出了当加工工件的嵌入深度逐渐变深时,磁流变抛光液的压力会随其变深而增大、磁流变抛光液的运动速度相反会随其变深而逐渐减小、磁流变抛光液的密度会随其变深而逐渐增大的结论。

• 单位
  武汉光电国家实验室; 华中光电技术研究所; 遵义师范学院; 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所