磁流变抛光非球柱面镜的新工艺

作者：罗斌; 阎秋生^*

来源：金刚石与磨料磨具工程, 2019, 39(02): 64-71.

DOI：10.13394/j.cnki.jgszz.2019.2.0013

• 柱面镜
• 磁流变抛光
• 表面粗糙度
• 面型精度

高精密的柱面镜光学元件,不但要求其具有极低的表面粗糙度、无表面/亚表面损伤和低的残余应力等,而且需要保证其柱面母线的平行度与垂直度。通过分析传统磨研抛技术和计算机控制的光学表面成型技术(CCOS) 2种技术对柱面镜加工后的表面粗糙度、面形精度和母线误差的影响,归纳2种加工方法的优缺点,针对现有加工方法存在的低效率、高粗糙度、表面/亚表面损伤等问题提出一种具有对称结构的非球柱面镜磁流变抛光新工艺,并通过时间参数实验验证了新工艺的可行性。该工艺降低了柱面镜的表面粗糙度,提高了面型精度,在抛光时间为40 min时,表面粗糙度Ra从1.84μm降低至0.36μm,局部面型精度RMS1从1.91μm降低到0.24μm,母线截面面型精度RMS2从4.1μm下降到0.68μm。

• 单位
  广东工业大学