溅射沉积是一种物理气相沉积技术，用于薄膜制备，被广泛应用于集成电路、平板显示、光伏等电子信息产业。尤其是，溅射靶材作为用于溅射沉积的关键材料，在集成电路等领域发挥了重要作用。本文基于溅射靶材在不同领域的应用，介绍了靶材相关加工技术以及靶材性能的影响等内容，阐述了不同溅射靶材在集成电路制造工艺中的不同应用，并介绍了全球半导体靶材市场的整体情况以及全球主要靶材供应商的产品情况。
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