离子辅助反应蒸发技术室温制备ITO薄膜

作者：喻志农; 相龙锋; 薛唯; 王华清; 卢维强

来源：北京理工大学学报, 2007, 27(10): 924-927.

DOI：10.3969/j.issn.1001-0645.2007.10.018

• 离子辅助反应蒸发技术
• 室温
• ITO薄膜

室温下利用离子辅助反应蒸发法在玻璃衬底上制备高透射比、低电阻率的ITO透明导电薄膜.实验结果表明离子辅助蒸发可以有效地降低制备温度,提高薄膜的光电特性,薄膜具有明显的(222)择优取向,晶体粒子尺寸约为21 nm;离子源屏压、通氧量及沉积速率是影响薄膜光电特性的主要因素.室温制备的ITO薄膜电阻率为2.4×10-3Ω.cm,可见光平均透射比大于82%.

• 单位
  北京理工大学