平行板反应离子刻蚀系统均匀磁场的数值计算

作者：陈家荣; 王玉琦

来源：真空, 2010, (02): 34-36.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2010.02.028

• 反应离子刻蚀
• 磁场
• 数值解及分析 reaction ion etching(RIE)
• magnetic field
• numerical computation

在平行板反应离子刻蚀系统的圆筒形腔体的侧壁上绕上电流线圈后,系统中的磁场强度和均匀性都可进行调节。本文根据螺线管线圈内部磁场的分布规律,通过数值计算的方法在该系统中获得均匀的磁场。

• 单位
  中国科学院合肥物质科学研究院; 贵州民族大学