等离子体增强原子层沉积技术制备过渡金属薄膜的研究进展

作者：田旭; 张翔宇; 李杨; 刘博文; 杨丽珍; 刘忠伟^*

来源：真空与低温, 2021, 27(01): 20-31.

• 过渡金属薄膜
• 等离子体增强原子层沉积
• 低温

原子级的处理对应用于计算和数据存储的最先进的电子设备,以及与物联网、人工智能和量子计算相关的新兴技术正变得越来越重要。等离子体增强原子层沉积(PEALD)是一种原子级表面沉积技术,由于其较高的反应活性以及较低的沉积温度日益受到研究者的关注。本文介绍了PEALD技术的基本原理以及相对于其他薄膜沉积技术的优势,之后从前驱体和基底材料的影响等方面介绍了利用PEALD制备Ti、Co、Ni、Cu、Ru、Pd、Ag、Ta、Ir和Pt等过渡金属薄膜以及它们在微电子领域的应用现状,最后进行了总结和展望。

• 单位
  北京印刷学院