双喷头静电喷射法制备光滑且致密的二氧化硅薄膜

作者：许波晶; 吴杨慧; 蒋锦虎; 顾文华

来源：电镀与涂饰, 2018, 37(07): 306-309.

DOI：10.19289/j.1004-227x.2018.07.005

• 二氧化硅
• 薄膜
• 静电喷射
• 喷头
• 晶体结构
• 分形生长

采用静电喷射法,用一个喷头喷洒四乙氧基硅烷(TEOS)与乙醇(Et OH)的混合溶液[n(TEOS)∶n(Et OH)=1.00∶19.00],另一个喷头喷洒乙醇、去离子水以及氨水(NH3·H2O)的混合溶液[n(Et OH)∶n(H2O)∶n(NH3·H2O)=19.00∶0.90∶1.64],在溶液流速为60μL/min,喷头与基底之间的距离为10 cm,电压为12 k V的条件下喷洒1 min,在玻璃基底表面反应形成了光滑、致密的二氧化硅薄膜。采用扫描电镜与原子力显微镜对所得薄膜进行了表征。相比于使用单一喷头喷射前驱体溶液[n(TEOS)∶n(Et OH)∶n(H2O)∶n(NH3·H2O)=1.00∶38.00∶0.90∶1.64]的传统方法,使用双喷头可以有效避免前驱体溶液在喷射前就生成二氧化硅小颗粒,从而提高了薄膜质量。通过考察基底温度对二氧化硅晶体生长的影响,发现薄膜的形成有明显的分形特征。

• 单位
  南京理工大学