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摘要
一种在高熵合丝材表面进行磁控溅射镀覆薄膜的方法。在设备样品台上有可供夹立合金丝材的装置,使得靶材原子能够在样品上沉积均匀。首先将高熵合金丝材进行抛光后对丝材表面进行清洗后,竖直夹立在位于多靶位共溅射磁控溅射镀膜机中的样品台上。将镀膜机抽真空至7×10-3Pa,将靶材进行清洗,之后充入高纯度的氩气,工作压力为0.6Pa,在正负电极间施加高的电压产生等离子体,使氩气产生辉光放电。溅射过程中始终保持样品台旋转,能量适当的氩离子在电场作用下轰击靶材,使得靶材原子脱离靶材表面,最后沉积在衬底上获得成分稳定的合金薄膜。本发明利用磁控溅射技术的优势,有利于在丝材形成纳米晶及纳米孪晶结构,薄膜致密,与基体结合良好。
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