摘要
在克深处理厂天然气处理过程中,因J-T阀及低温分离器析蜡导致系统堵塞,致使装置处理量受限,同时外输气烃露点不合格。针对此问题开展防蜡工艺研究,通过实验及HYSYS软件模拟分析蜡堵的具体原因后得出,克深区块的天然气组分不连续,C5~C8组分缺失,多环芳烃类物质存在于气相中,无法被溶解分离,在进入低温环境后容易凝结析出,最终导致低温分离器内构件堵塞。通过实验和现场运行经验以及理论计算,根据相似相溶原理制定技术解决路线,采用HYSYS软件模拟分析,从原料气空冷器前注入轻烃,补充缺失组分,解决了蜡堵问题,单套处理装置恢复设计处理量。井口天然气组分分析的准确性对处理装置的设计至关重要,对新开发气田组分化验要求由C7提高到C30,并形成相应的组分分析方法,研究成果成功地同步推广应用到蜡堵的克深处理厂,取得了良好的效果,对类似含蜡气田的建设具有借鉴意义。