水系蚀刻聚酰亚胺

作者：汤嘉陵; 王惟; 顾宜

来源：四川大学学报(工程科学版), 2005, (2): 43-46.

DOI：10.3969/j.issn.1009-3087.2005.02.009

• 聚酰亚胺
• 丙烯酸光致抗蚀干膜
• 化学蚀刻

以普通丙烯酸光致抗蚀干膜为抗蚀层,采用对该抗蚀层进行二次UV曝光新工艺.分别以1%、4%的四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液为显影液和蚀刻液,实现了不同体系PAA胶膜的水系蚀刻,最终制备出膜厚为20～25 μm,蚀刻精度达线宽/线距＝60 μm/60 μm的聚酰亚胺(PI)蚀刻图膜.三乙胺的加入可有效抑制PAA降解,将PAA胶液室温有效存放期从7 d以内延长至14*!d以上,且对化学蚀刻PI蚀刻图

• 单位
  四川大学; 高分子材料工程国家重点实验室