46m/s高速并行双光子激光直写光刻系统

作者：王洪庆; 温积森; 杨臻垚; 汤孟博; 孙秋媛; 马程鹏; 王子昂; 詹兰馨; 张晓依; 曹春; 沈小明; 丁晨良; 匡翠方

来源：中国激光, 2022, 1-13.

• 光学制造
• 微纳加工
• 双光子激光直写
• 多光束并行制造

双光子激光直写技术高精度、高灵活性的特点使其在科研界具有广泛应用，但直写速度低制约了其在工业领域的应用与发展。本文基于转镜扫描系统设计并验证了一套高速双光子激光直写光刻系统，该系统基于空间光调制器与多通道声光调制器的联合调控，实现6通道并行刻写功能，且每个通道可独立调控，调控速度达MHz以上。实验结果表明，每通道直写速度最高可达7.77m/s，刻写特征尺度最小可达150nm，并行刻写时最高直写速度可达46.62m/s。此外本文基于反射式像旋转器设计了一种通道间距高精度调节方法，精度超过1nm。

• 单位
  浙江大学; 之江实验室; 现代光学仪器国家重点实验室