摘要

目的:比较精神分裂症患者一级亲属(高危人群)和家族史阴性、首发未用药患者及正常人群之间大脑结构形态的差异。方法:应用基于体素的形态学研究方法(VBM),对满足入组标准的高危组(患者的一级亲属且无精神症状)10例、首发组(首次发病未用药且家族史阴性)10例及正常人群(正常对照组)10名进行头颅核磁共振扫描和VBM分析,比较各组之间各脑区灰质体积的变化。结果:与正常对照组相比,高危组左侧扣带回内部和扣带旁回的灰质体积出现显著性缺损(cluster=26voxel;MNI:-7,-27,30);首发组左侧丘脑灰质体积较小(cluster=580 voxel;MNI:-10,-17,12)。与高危组相比,首发组左侧岛叶灰质体积较小(cluster=1 197 voxel;MNI:-38,-16,-5)。结论:精神分裂症患者大脑结构异常与遗传和环境均有一定的联系。