不同工艺参数下DLC薄膜的应力状态

作者：李党娟; 王娜; 吴慎将; 苏俊宏^*

来源：真空科学与技术学报, 2020, 40(05): 421-426.

DOI：10.13922/j.cnki.cjovst.2020.05.05

• 类金刚石薄膜
• 磁控溅射
• 薄膜应力
• 工艺参数

类金刚石(DLC)薄膜制备过程中,容易出现较大应力,从而导致DLC薄膜产生裂纹、破裂甚至脱落,对基底过早失去保护作用,导致光学系统失效,严重影响了DLC薄膜的工作时间和应用领域。基于射频磁控溅射技术,在双面抛光Si(100)基底上,沉积DLC薄膜,制备不同射频功率(250、350、450 W)、不同氩气流量(40、60、80 mL/min)、不同溅射角(30°、60°、90°)下的DLC薄膜,获得不同工艺参数对DLC薄膜应力的影响规律。经过测试结果表明:在相同的基底形状与尺寸下,当射频功率为350 W,氩气流量为60 mL/min,溅射角为90°时,薄膜的应力表现出最小值,为0.85 GPa。

• 单位
  西安工业大学