汞离子印迹聚合物的制备及性能研究

作者：**彬; 王毓; 龙攀峰; 赵君; 周进康^*

来源：贵州师范学院学报, 2019, 35(03): 13-17.

DOI：10.13391/j.cnki.issn.1674-7798.2019.03.005

• 汞离子印迹聚合物
• 螯合剂
• 吸附
• 2+" name="keyword">Hg2+

采用水合反应法,将功能单体、模板分子、螯合剂、交联剂等在引发剂作用下进行聚合反应,制成膜包裹在大孔树脂表面,制备出汞离子印迹聚合物(M-SIIP-S4)。采用红外光谱、表面孔径分析、X-衍射对其结构进行表征。将M-SIIP-S4进行平衡吸附实验,考察M-SIIP-S4对Hg2+的吸附性能,优化了Hg2+溶液初始质量浓度与吸附时间。结果表明,M-SIIP-S4在Hg2+初始质量浓度为200 mg/L,时间2.5 h时,吸附量为57.6 mg/g,吸附率达95%,M-SIIP-S4对几种重金属离子的吸附量大小顺序为Hg2+>Al3+>Zn2+>Ca2+>Cu2+。

• 单位
  贵州师范学院; 材料学院