Ge, Al掺杂锰硅化和物Mn4Si7的第一性原理计算

作者:丁璨; 胡兴; 高振江; 丁庆昌
来源:原子与分子物理学报, 2022, 39(03): 141-148.
DOI:10.19855/j.1000-0364.2022.036004

摘要

基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理计算方法,对本征Mn4Si7以及Ge, Al单掺杂和共掺杂Mn4Si7的晶体结构,能带结构,态密度以及光学性质进行了计算和分析.计算结果表明:本征态Mn4Si7的禁带宽度为0.810 eV,为直接带隙半导体材料,掺杂后晶体结构稍微变化,禁带宽度减小,且共掺杂时禁带宽度最小,电导率最好.Al以及Ge, Al共同掺杂时会产生杂质能级.掺杂后光子能量向低能级方向移动,光电导率,光吸收,反射系数都有所增大,说明掺杂改善了Mn4Si7的光学性质,从而可以提高光伏发电效率.

全文