联氨浓度对化学溶池沉积ZnS薄膜的影响

作者：刘庭芝; 多树旺; 张萌; 向军淮; 张荣发; 胡长员; 朱世峰

来源：中国有色金属学报, 2009, 19(09): 1706-1711.

DOI：10.19476/j.ysxb.1004.0609.2009.09.028

• ZnS薄膜
• 化学水浴
• 联氨浓度
• 络合前驱体

采用化学溶池沉积法在玻璃衬底上制备ZnS薄膜。为了解联氨在沉积过程中的作用,采用金相显微镜、XRD、nkd-薄膜分析系统对薄膜形貌、结构和光学性能进行分析。结果表明:随着联氨浓度的增加,衬底表面形核点数目增加,分布均匀,薄膜颗粒得到细化。结合Zn2+的络合前驱体、络合常数及其三元络合常数计算、氢键及空间位阻等方面的分析,认为会出现3种不同的络合前驱离子,分别为Zn(NH3)24+、Zn(NH3)x(N2H4)2y+、2+Zn(NH3)3。这些Zn2+的前驱体影响着衬底形核点的数目、分布与薄膜的均匀性。在适当条件下,联氨不再起辅助沉积的作用,而是与氨一起形成三元络合配位体系,共同参与沉积。通过改变联氨浓度,可以制备出在550～1000nm的波长范围内透过率达95%以上、反射率与透过率相对应、均匀平整的非晶薄膜。

• 单位
  南昌大学材料科学与工程学院; 江西科技师范学院; 江西省材料表面工程重点实验室