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摘要
为了在微米尺度探究未分级钨粉、分级钨粉制备的钨基体在阴极热电子发射性能上的差异，深入了解阴极表面微区电子发射过程和阴极发射机理，采用新型深紫外激光发射电子显微镜/热发射电子显微镜系统（DUV-PEEM/TEEM）对2种钨粉制备的阴极表面进行了光电子、热电子成像分析。结果显示，与未分级钨粉相比，分级钨粉制备的钨基体的显微组织更加均匀，且闭孔率由1.44%降至0.47%；光电子+热电子联合成像精确得出2种阴极的发射均主要集中于孔隙及孔隙中的活性物质上；通过热电子图像对比及分析表明，分级钨粉制备的阴极的热电子发射微区面积更大、分布更均匀；且在1050℃工作条件下，分级钨粉制备的阴极的脉冲电流密度为30.79 A/cm2，发射斜率为1.38；综合分析显示，其具备更理想的本征热电子发射能力和发射均匀性。
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