温室痕量灌溉条件下施肥量与追肥模式对黄瓜产量和品质的影响

作者：王枭; 杨培岭^*; 黄令淼

来源：灌溉排水学报, 2019, 38(01): 36-41.

DOI：10.13522/j.cnki.ggps.2017.0394

• 日光温室
• 黄瓜
• 痕量灌溉
• 施肥制度

【目的】探究痕量灌溉条件下适合温室黄瓜的施肥规律。【方法】采用对照试验方法,设3种总施肥量(高肥、中肥、低肥)和3种底肥与追肥比(K=0、1/3、1),共9个处理,分析了温室黄瓜产量和品质的变化。【结果】(1)在总肥量一定时,K=1/3有利于黄瓜增产;而K值一定时,高肥处理产量最高,中肥处理产量较低于高肥处理,但差距不大。(2)K值一定时,随着总肥量的增加,果实内可溶性糖和Vc量呈现先增后减的趋势,硝酸盐量一直增加,而可溶性固形物量在施中肥后增加趋势减缓;果实内可溶性糖、可溶性固形物和还原型Vc量在施中肥(T5)时基本达到峰值,且显著高于高肥(T8)处理;果实内硝酸盐量在施高肥(T8)时达到峰值;K=1/3时果实内可溶性糖、可溶性固形物和还原型Vc、硝酸盐积累量均高于K=1的。【结论】综合产量与品质各指标,施中肥且K=1/3为更适合痕量灌溉条件下温室黄瓜的施肥模式。

• 单位
  中国农业大学