铌酸锂晶体的抛光机理及精密加工工艺

作者：刘立新; 张学建; 张莹; 吕凯; 张志斌; 张辉荣; 官周国; 刘景和

来源：硅酸盐学报, 2008, (11): 1609-1614.

• 铌酸锂晶体
• 二氧化硅抛光液
• 化学机械抛光
• 环形抛光 lithium niobate crystal
• silica dielectric slurry
• chemical mechanical polishing
• annular polishing

采用Stober法制备了平均粒径分别约为50nm和300nm的SiO2抛光液。通过透射电镜、粒径测定仪、zeta电位仪测试和分析了制备的SiO2抛光液的粒径分布、分散度和稳定性。结果表明:抛光液中SiO2溶胶颗粒为球形,溶胶粒子的分散度小,并且具有较好的稳定性。用制备的粒径分别为50nm和300nm的SiO2抛光液对铌酸锂晶体样品进行化学机械抛光,研究了压力、抛光盘速度、抛光液流量及时间对抛光过程的影响。抛光结果表明:采用粒径为50nm的SiO2抛光液的抛光效果最好。最佳抛光工艺参数是:采用沥青抛光盘,50nm的SiO2抛光液,转速为40r/min,抛光液流量为3mL/min,压力为17kPa...

• 单位
  吉林建筑大学; 西南技术物理研究所; 长春理工大学