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摘要
随着现代科技高速发展，各类通信设备与电子仪器所产生和面临的电磁污染与电磁干扰状况日益复杂，因而电磁屏蔽材料的研究受到了广泛关注。而在军事、航空航天、医疗、精密仪器等诸多领域同时存在着实现光学透明和电磁屏蔽功能的应用需求，因此研发兼具高透过率和高电磁屏蔽效能的电磁屏蔽玻璃具有重要意义。本文对近年来国内外关于电磁屏蔽玻璃的最新研究进展进行了综合评述，并从结构角度将电磁屏蔽玻璃分为膜层类结构、网栅类结构和复合结构三类，对各种结构及材料的优势与缺陷进行了总结和分析，最后对未来该领域的研究方向和发展前景进行了展望。
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单位中国科学院大学; 中国科学院西安光学精密机械研究所; 瞬态光学与光子技术国家重点实验室
