基于外部气相沉积工艺的新型大有效面积非零色散位移光纤的设计与制备

作者：查健江^*; 陈强; 兰兴铃; 张俊; 文建湘

来源：中国激光, 2022, 49(23): 147-155.

• 光纤光学
• 外部气相沉积工艺
• G.655.D光纤
• 大有效面积
• 非零色散位移
• 密集波分复用
• 光纤设计与制造

采用一种具有中心凹陷的三角芯+环型的折射率剖面设计，利用外部气相沉积(OVD)工艺制备了新型非零色散位移G.655.D光纤。实验结果表明：在1550 nm和1625 nm波长处，光纤的衰减值分别为0.195 dB/km和0.203 dB/km,截止波长为1200 nm;将光纤绕在半径为25 mm的圆柱体上100圈，此时其在1550 nm和1625 nm波长处的宏弯损耗值分别低于0.027 dB和0.045 dB;该光纤在1530～1625 nm波段的色散为1.6～9.5 ps/(nm·km),尤其是在1550 nm波长处，其有效面积达到72μm2,比常规G.653光纤大1.4倍。通过这种设计和方法制备的光纤可以实现零色散波长的平移，获得良好的纵向色散均匀性、较低的弯曲损耗以及较大的有效面积，适用于1530～1625 nm波段的密集波分复用应用，在长距离光纤通信中对四波混频(FWM)、交叉相位调制(XPM)等非线性效应具有较好的抑制作用，可以减少色散管理成本，具有非常重要的应用价值。

• 单位
  成都富通光通信技术有限公司; 上海大学