高能微弧沉积H65黄铜涂层试验研究

作者：朱胜; 张雨豪; 郭迎春; 王晓明; 常青; 赵阳^*

来源：热加工工艺, 2021, 50(14): 102-108.

DOI：10.14158/j.cnki.1001-3814.20191855

• 亚激光
• 正交试验
• 沉积层硬度

针对亚激光高能微弧制备H65黄铜沉积层进行了正交试验,并对试验数据进行极差、方差分析,探索了影响H65黄铜沉积层硬度的因素,重点分析了功率、脉宽、频率工艺参数对沉积层硬度的影响规律。结果表明:功率是影响沉积层硬度的最主要因素,其次是频率,最后是脉宽。亚激光高能微弧沉积试验的最佳工艺参数:功率为2700 W、脉宽为850 ms、频率为1.0 Hz。

• 单位
  中国人民解放军装甲兵工程学院