NB-UVB对黑素细胞黑素合成相关基因表达的影响

作者：孙晶莹; 封青; 李研; 霍雪萍; 孙丽君^*

来源：中国麻风皮肤病杂志, 2021, 37(10): 625-628.

• 窄谱中波紫外线
• 黑素细胞
• 黑素合成相关基因

目的:研究NB-UVB照射对黑素细胞的细胞活性、黑素合成、黑素合成相关基因表达的影响。方法:培养黑素细胞系PIG1,利用MTT法检测不同剂量NB-UVB(400、800、1200、1600、2000 mJ/cm2)照射后细胞的增殖率,采用NaOH裂解法测定细胞中的黑素含量,RT-PCR和Western blot方法检测UVB照射后12个黑素合成相关基因Tyr、Tyrp1、Tyrp2、OA1、MART-1、Pmel17、VAT-1、OCSP、syntenin、CHCHD3、flotillin-1、GPNMB的mRNA和蛋白的表达。结果:NB-UVB照射剂量在400、800、1200 mJ/cm2时,细胞活力无明显变化,照射剂量为1600、2000 mJ/cm2时细胞活力明显下降。NB-UVB照射剂量为400、800、1200 mJ/cm2时,随着照射剂量的增加,黑素的合成增加;NB-UVB照射后,12种黑素体蛋白中,Tyr、Tyrp2、GPNMB、Syntenin、MART-1的基因mRNA及蛋白表达显著升高。结论:UVB照射显著增加了黑素合成和相关基因的表达。

• 单位
  中心实验室; 陕西省人民医院