浅论气体压强对金刚石薄膜质量的影响

作者：孙鑫; 丁喜峰; 王文静

来源：中国新技术新产品, 2013, (12): 55-56.

DOI：10.13612/j.cnki.cntp.2013.12.077

• 金刚石(薄膜)
• MPCVD
• 气体压强
• Raman光谱

以甲烷、氢气做为气源,利用微波等离子气相沉积的方法在硅片上沉积金刚石薄膜。研究了不同压强对金刚石薄膜质量的影响。结果表明当气氛压强为9KPa时可获得高质量的金刚石薄膜。

• 单位
  燕山大学