高压对高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积氧化钒薄膜的影响

作者：李春伟; 巩春志; 吴忠振; 刘天伟; 秦建伟; 田修波; 杨士勤

来源：功能材料, 2012, (14): 1922-1926.

• 高功率脉冲磁控放电
• 等离子体离子注入与沉积
• 氧化钒薄膜
• 高压
• 耐腐蚀性 high power pulsed magnetron discharge
• plasma ion implantation and deposition
• vanadium oxide films
• high voltage
• corrosion resistance

利用高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积技术制备了氧化钒薄膜,分别采用X射线衍射仪、原子力显微镜、扫描电子显微镜和电化学分析仪研究了不同高压幅值对氧化钒薄膜的相结构、表面形貌、截面形貌以及耐腐蚀性能的影响。结果表明制备的氧化钒薄膜以VO2(-211)相为主,还含有少量的VO2(111)、VO(220)、VO(222)相。不同高压下氧化钒薄膜表面致密、平整,其表面粗糙度仅为几个纳米,显示出良好的表面质量。氧化钒薄膜表现出典型致密的柱状晶生长形貌,且随着高压增加,氧化钒薄膜膜层厚度有所下降。氧化钒薄膜耐腐蚀性能较纯铝基体有较大提高,腐蚀电位提高0.093V,腐蚀电流下降1～2个数量级;当高压为-1...

• 单位
  中国工程物理研究院; 表面物理与化学国家重点实验室; 哈尔滨工业大学; 东北林业大学; 先进焊接与连接国家重点实验室