分离靶电弧离子镀制备TiN/TiAlN多层薄膜的微观结构和力学性能(英文)

作者：魏永强; 李春伟; 巩春志; 田修波; 杨士勤

来源：Transactions of Nonferrous Metals Society of China, 2011, (05): 1068-1073.

• 电弧离子镀
• TiN/TiAlN薄膜
• M2高速钢
• 大颗粒
• 硬度
• 双层调制 arc ion plating
• TiN/TiAlN coatings
• M2 high speed steel
• macroparticles
• hardness
• bilayer modulation

采用分离靶电弧离子镀制备TiN/TiAlN多层薄膜。为了减少大颗粒的不利影响,利用直线型磁过滤方法来减少低熔点铝靶产生的大颗粒。结果表明,没有过滤的钛靶和磁过滤的铝靶等离子体到达基体的输出量在相同的数量级,同时,采用该方法制备的薄膜中的大颗粒数目是文献中报道的合金靶制备的薄膜大颗粒数目的1/10～1/3。Al元素的添加引起薄膜在(200)晶面的峰值降低,而在(111)和(220)晶面的峰值增强。TiN/TiAlN多层薄膜的最大硬度为HV2495,薄膜的硬度增强符合混合法则,结合力达75 N。

• 单位
  哈尔滨工业大学; 先进焊接与连接国家重点实验室