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摘要
本文利用脉冲激光沉积技术在LaAlO3(100)和SrTiO3(100)衬底上生长了LaTiO3薄膜，利用高分辨X射线衍射和透射电子显微术对薄膜的显微结构进行了系统表征，利用霍尔效应测量系统对薄膜的电学性能进行了研究。XRD结果表明在两种衬底上生长的LaTiO3薄膜均为单晶薄膜，SrTiO3衬底上的薄膜具有更高的结晶度。透射电镜显微结构表征的结果显示，LaTiO3薄膜在两种衬底上均实现了外延生长，SrTiO3衬底上的薄膜具有更少的晶格缺陷，薄膜与衬底之间的界面也更平直和明锐。薄膜I-V曲线测量的结果表明SrTiO3衬底上的LaTiO3薄膜具有更低的电阻率。两种薄膜显微结构和电学性能的优劣主要源自于薄膜与衬底之间的晶格失配大小，更小的界面失配有利于高质量薄膜的外延生长。
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