体硅加工微电极传感器研究

作者：刘敬伟; 边超; 韩泾鸿; 陈绍凤; 白强; 夏善红

来源：仪器仪表学报, 2004, S2: 144-147.

DOI：10.19650/j.cnki.cjsi.2004.s2.048

• 传感器
• 电流型
• 微电极
• 体硅加工
• 微反应池 Senosr Amperometric Microelectrode Bulk micro-machined Micro reaction pool

应用新的体硅加工技术和新的电极表面修饰方法,提出了一种新型电流型微电极传感器。以与IC兼容的硅作为基底材料,利用体硅加工工艺,采用各向异性硅腐蚀及SU- 8微反应池方法制成了新型体硅加工电极。同时,铂化并聚合被首次用来作电极表面修饰。以葡萄糖检测为例,使用吡咯作为聚合材料,新传感器与传统的电流型传感器相比,有较小的敏感面积(1m m×1mm )、较大的敏感系数(39.6 4 0 n A.m M- 1 .m m- 2 )、较低的检测下限(1×10 - 4M)、较宽的检测范围(1×10 - 4～1×10 - 2 M)、较好的重现性(五次测量的RSD为3.2 % )与稳定性(温室保存一个月后活性保留...

• 单位
  中国科学院电子学研究所; 中国科学院研究生院; 传感技术国家重点实验室