磁控溅射技术及其发展

作者：李芬; 朱颖; 李刘合; 卢求元; 朱剑豪

来源：真空电子技术, 2011, (03): 49-54.

DOI：10.3969/j.issn.1002-8935.2011.03.012

• 薄膜制备
• 磁控溅射
• 平衡磁控溅射
• 非平衡磁控溅射

磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜,以及各种具有特殊功能的薄膜,在工业薄膜制备领域的应用非常广泛。本文着重介绍了磁控溅射技术原理、特点、磁控溅射技术的发展史及其发展趋势。

• 单位
  北京航空航天大学; 香港城市大学; 自动化学院