高纯钨粉末还原工艺研究

作者：刘山宇; 张宇晴; 李曹兵; 王芦燕; 陈钊

来源：中国金属通报, 2020, (05): 91-92.

• 高纯钨粉
• 还原
• 粒度分布
• 形貌

本文对高纯钨粉的还原工艺进行了研究,通过对一次还原、二次还原的温度进行研究表明:一次还原随温度升高粒度逐渐减小,当650℃时二氧化钨粒度为7.5μm,二次还原温度最高温度980℃,钨粉粒度3.0μm～3.5μm,粉末粒度成正态分布,形貌分析还原粉末颗粒形状均比较规则,绝大部分为六面体,颗粒尺度范围较大。