钯铜合金膜的化学镀制备过程研究

作者:张小亮; 卢胜林; 胡志洋; 马瑞; 黄彦
来源:江西师范大学学报(自然科学版), 2010, (05): 516-519.
DOI:10.16357/j.cnki.issn1000-5862.2010.05.017

摘要

采用正交法研究了Pd-Cu合金膜的化学镀制备过程,考察了镀液组成和制备条件对镀膜速率的影响.在化学镀膜过程中,CuCl2浓度对镀膜沉积速度的影响最大,最优Cu镀液组成和制备条件为CuCl20.04 mol/L,KNaC4H4O60.05 mol/L,HCHO 15.0 mL/L,温度30℃.根据Pd、Cu的沉积速率,控制化学镀Cu的时间可制备出一系列精确Pd/Cu质量比的致密Pd-Cu合金膜.

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