磁控溅射制备的含He纳米晶铜膜的微结构分析

作者：周冰; 邓爱红; 张丽然; 周宇璐; 李悦; 陈燕

来源：四川大学学报(自然科学版), 2011, (06): 1371-1374.

• 磁控溅射
• 纳米晶铜膜
• X射线衍射
• 慢正电子束分析 magnetron sputtering
• nanocrystalline copper film
• XRD
• SPBA

采用直流磁控溅射法,在不同的He/Ar混合气氛下,制备了不同He含量的铜膜.利用弹性反冲探测(ERD)方法探测了铜膜中氦的含量和深度分布,实验发现引入铜膜中的氦深度分布较均匀;并本文采用X射线衍射(XRD)分析了铜膜中氦的微结构。实验结果表明随着铜膜中氦含量的逐渐增加,对应Cu(111)晶面的峰强也有所增强;最后应用了慢正电子柬分析(SPBA)技术测量了不同含氦铜膜的缺陷结构,随着铜膜中氦的增加,S参数会发生相应的变化.

• 单位
  四川大学