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摘要
<正>材料的应用取决于性能,性能来源于成分与结构,而结构受控于其制备技术与工艺过程,故开展新型材料制备技术与应用研究一直在新材料研发的重要组成部分!高离化磁控溅射技术作为最新的物理气相沉积手段,可以产生类似弧光放电的高等离子体密度和离化率,同时具备辉光放电单原子粒子束流特点,大大提高了材料生长过程中沉积粒子的可控性和能量均匀性,进而可在材料表/界面处理、材料结构调控及离子辅助生长等方面提供极大的便利。故自1999年瑞典科学家提出高功率脉冲磁控溅射原理(HiPIMS)以来,学术界和工业界都表现出极大的兴趣,针对其放电特性、电源设备、等离子体诊断以及沉积薄膜特性的研究层出不穷,不少企业已经推出基于HiPIMS及其改进或复合技术的工业生产设备,并在界面处理、硬质涂层、装饰涂层、光学薄膜、电子工业等多个领域进行应用探索!
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