等离子清洗及点胶轨迹对底部填充胶流动性的影响

作者:翟培卓; 洪根深; 王印权; 李守委; 陈鹏; 邵文韬; 柏鑫鑫
来源:半导体技术, 2023, 48(03): 268-271.
DOI:10.13290/j.cnki.bdtjs.2023.03.013

摘要

倒装焊封装过程中,底部填充胶的流动性决定了填充效率,进而影响生产效率及成本。通过对比接触角和底部填充胶流动时间,研究了等离子清洗及点胶轨迹对底部填充胶流动性的影响。结果表明:经微波等离子清洗后,水及底部填充胶在陶瓷基板表面的浸润性均有所提高;微波等离子清洗还能促进底部填充胶在芯片和陶瓷基板之间的流动。I形点胶轨迹对应的流动时间最长,而U形点胶轨迹的流动时间最短。因此适当增加点胶轨迹的总长度,可以有效提高底部填充胶的填充效率。

  • 单位
    中国电子科技集团公司第五十八研究所

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