混合磨粒CMP抛光液的制备及抛光效果研究

作者：贺祥; 刘军; 高爽; 耿伟纬; 蔡金凤; 付慧坛^*

来源：河南化工, 2019, 36(05): 19-21.

DOI：10.14173/j.cnki.hnhg.2019.05.005

• 化学机械抛光
• CMP抛光液
• 混合磨粒
• 表面粗糙度
• 光泽度

为提高CMP的抛光效果,配制了一种混合磨粒CMP抛光液,用于对不锈钢的抛光。实验结果表明:硅溶胶和铝溶胶配比为4∶1,使用十二烷基硫酸钠为阴离子表面活性剂,调节pH值为2.5配制的抛光液的分散稳定性较好;采用上述抛光液对304号不锈钢进行抛光,其粗糙度和光泽度得到明显提高。

• 单位
  河南工业大学