Ge纳米结构的形貌与铁磁性研究

作者：赵翠莲; 甄聪棉; 马丽; 潘成福; 侯登录

来源：Acta Physica Sinica, 2013, (03): 369-374.

• Ge纳米薄膜
• 铁磁性
• 缺陷
• 颗粒分布 Ge nano-film
• ferromagnetism
• defect
• particles distribution

利用等离子体增强化学气相沉积技术制备了厚度不同的Ge薄膜,随着样品厚度的减小,样品表现出了室温铁磁性.厚度为12nm样品经过300C退火后,由于颗粒细化,颗粒之间的界面增加,界面缺陷增加,样品表现出最大的铁磁性(50emu/cm3).场冷却和零场冷却曲线测试表明居里温度约为350K.进行600C退火后,颗粒团聚,样品的铁磁性最小.当样品厚度进一步减小为6nm时,沉积态样品表现出铁磁性和顺磁性共存.对6nm厚的样品进行300C退火后,样品只具有铁磁性.进行600C退火后,样品却只具有顺磁性.12nm和6nm厚的Ge纳米结构薄膜随退火温度变化表现出不同的磁性规律,我们认为是由于样品的颗粒大小和颗粒...

• 单位
  河北师范大学; 河北工程技术高等专科学校