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摘要
真空离子镀铝过程无三废即废水、废气、废渣产生,已成为广泛研究的热点。本文分析了真空离子磁控溅射镀铝设备原理结构和设计流程,引入闭合磁场非平衡磁控溅射技术思路,对比直流单靶材磁控溅射和内外双靶材磁控溅射中的电磁场分布和等离子体分布,将2个直流内单圆柱靶改制为4个磁极相对的内外双圆柱靶结构,构建内靶磁场和外靶磁场相反的闭合磁场,研发满足涂层综合性能要求且适于批量生产的镀铝设备,助推国内新型装备高质量发展和清洁节能生产。
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单位贵州航天职业技术学院
