等离子喷涂碳化硼/钼涂层氚的滞留性能研究(英文)

作者：林初城; 朱慧颖; MASAOMatsuyama; 王虎; 黄利平; 郑学斌; 曾毅

来源：无机材料学报, 2013, 28(09): 1040-1044.

• 碳化硼/钼
• 第一壁材料
• 氚
• X射线光谱法 B4C/Mo coatings
• PFMs
• tritium
• X-ray spectrometry

为了保证核能源的使用安全,对氚在第一壁材料表面的滞留数量以及深度进行定量表征非常重要。在本研究中,制备了一系列潜在的第一壁材料B4C/Mo涂层,并采用成像板(IP)和β射线激发X射线(BIXS)法对其表面的氚滞留情况进行了测定。IP图像表明,涂层表面吸附的氚含量遵循以下顺序:B4C>BM15>BM5>Mo。而BIXS结果进一步表明,对于B4C涂层,大部分氚扩散到了涂层内部;而对于其他三种涂层,氚仅在其表面发生吸附。扫描电镜(SEM)结果显示,B4C涂层气孔率最高,而其他三种涂层尽管气孔率较低,但其截面仍能观察到大量气孔和微裂纹的存在。涂层中的这些缺陷为氚的吸收和扩散提供了通道,而气孔与微裂纹的...

• 单位
  上海市计量测试技术研究院; 中国科学院上海硅酸盐研究所; 高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室; 富山大学