脉冲激光沉积法制备二氧化钒薄膜的研究进展

作者：王海方; 李毅; 蒋群杰; 俞晓静; 胡双双; 武斌; 张虎; 黄毅泽; 张伟

来源：激光与光电子学进展, 2009, 46(06): 49-53+48.

• 薄膜
• VO2薄膜
• 脉冲激光沉积
• 制备
• 掺杂 thin films
• VO 2 thin film
• pulsed laser deposition
• fabrication
• doping

主要阐述了脉冲激光沉积(PLD)技术在制备金属氧化物方面的物理过程和技术特点,详细介绍了脉冲激光沉积制备二氧化钒(VO2)薄膜的工艺参数和国内外研究进展,并与几种常规制备方法进行了对比,给出了脉冲激光沉积掺杂对VO2薄膜特性的影响,以及脉冲激光沉积制备VO2纳米材料,讨论了脉冲激光沉积制备VO2薄膜存在的问题和发展方向。

• 单位
  上海理工大学; 电子信息工程学院