科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
摘要
根据手工抛光多方向性的特点,提出一种三维类摆线抛光轨迹。为解决三维类摆线相交处抛光材料去除较多的问题,依据材料去除深度模型和轨迹相交的特点,确定摆线参数的控制范围,在参数控制范围内进行基于均匀材料去除的区域进给速度优化,把去除深度相近的轨迹点视为一个区域,分区域控制抛光的进给速度,最终实现各区域内的材料去除深度基本相同。仿真和机器人抛光实验结果表明,分区域规划进给速度减少了轨迹相交处的材料去除,使得工件表面的去除深度总体上趋于一致,解决了因轨迹重叠导致的表面材料去除不均匀问题,提高了抛光件表面质量。
- 单位
