气体流量对TYUT型MPCVD装置沉积大面积金刚石膜的影响

作者：郑可; 钟强; 高洁; 黑鸿君; 申艳艳; 刘小萍; 贺志勇; 于盛旺

来源：人工晶体学报, 2016, 45(10): 2359-2363.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2016.10.002

• 气体流量
• MPCVD
• 金刚石膜
• 均匀性
• 晶粒取向
• 品质

使用自行研制的频率为2.45 GHz的TYUT型MPCVD装置,以H2和CH4为气源,在功率为8 k W、基片温度为1000℃、气体流量为100800 sccm条件下,进行了直径为65 mm的大面积金刚石膜的沉积实验。使用扫描电镜、X射线衍射仪、数字千分尺和Raman光谱仪等仪器分别对金刚石膜的表面形貌、取向、厚度和品质进行了表征。实验结果表明,气体流量的变化会对金刚石膜的晶粒尺寸,晶体取向,沉积速率,厚度均匀性和品质产生较大的影响。气体流量在300600 sccm范围内制备的金刚石膜才兼具晶粒尺寸均匀性好、表面缺陷少和品质高的优点。

• 单位
  太原理工大学