登录
免费注册
首页
论文
论文详情
赞
收藏
引用
分享
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
ITO薄膜性能、应用及其磁控溅射制备技术的研究
作者:吴晓飞; 郗雨林
来源:
热加工工艺
, 2013, (02): 88-90.
DOI:10.14158/j.cnki.1001-3814.2013.02.010
ITO
薄膜
磁控溅射 ITO
thin film
magnetron sputtering depositing
摘要
研究了ITO薄膜的性能、应用以及磁控溅射制备技术,并对相关技术的发展趋势进行了探讨。
单位
中国船舶重工集团公司第七二五研究所
全文
全文
访问全文
相似论文
引用论文
参考文献