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摘要
通过正交试验方法,以沉积速率和镀层外观为指标,探讨了电流密度、电沉积时间、镀液中稀土含量、镀液温度4个因素对沉积速度的影响规律,初步确定合金镀层的最佳制备工艺条件为:J=5 A/dm2、t=50 min、θ=50～60℃、ρ(CeCl3)=0.3 g/L。利用扫描电镜、塔菲尔曲线等手段测试了镀层的形貌、耐蚀性和抗氧化性。结果表明,在添加CeCl3条件下沉积获得的Ni-Fe合金镀层的抗高温氧化性和耐蚀性能均比没有添加CeCl3的好,表明Ce(Ⅲ)起到改善电沉积效果的作用。
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通过正交试验方法,以沉积速率和镀层外观为指标,探讨了电流密度、电沉积时间、镀液中稀土含量、镀液温度4个因素对沉积速度的影响规律,初步确定合金镀层的最佳制备工艺条件为:J=5 A/dm2、t=50 min、θ=50～60℃、ρ(CeCl3)=0.3 g/L。利用扫描电镜、塔菲尔曲线等手段测试了镀层的形貌、耐蚀性和抗氧化性。结果表明,在添加CeCl3条件下沉积获得的Ni-Fe合金镀层的抗高温氧化性和耐蚀性能均比没有添加CeCl3的好,表明Ce(Ⅲ)起到改善电沉积效果的作用。
