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摘要
采用工业磁控溅射设备在玻璃基板上依次沉积Al_2O_3/SiO_2/CNx多层复合纳米薄膜,并研究测试了其透过率、耐划性及耐酸碱性。结果表明,通过引入线性阳极层离子源,控制并形成新的磁控溅射镀膜工艺,膜层莫氏硬度达到8级,具有优良的防刮效果;膜层存在△T>0.6%的微弱增透效果;经过酸/碱处理,透过率衰减|ΔT|<0.1%。
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采用工业磁控溅射设备在玻璃基板上依次沉积Al_2O_3/SiO_2/CNx多层复合纳米薄膜,并研究测试了其透过率、耐划性及耐酸碱性。结果表明,通过引入线性阳极层离子源,控制并形成新的磁控溅射镀膜工艺,膜层莫氏硬度达到8级,具有优良的防刮效果;膜层存在△T>0.6%的微弱增透效果;经过酸/碱处理,透过率衰减|ΔT|<0.1%。
