一种低使用成本的高精度曝光和测量技术

作者：周畅; 徐兵; 朱岳彬

来源：光电子技术, 2019, 39(03): 210-214.

DOI：10.19453/j.cnki.1005-488x.2019.03.010

• 曝光
• 长寸
• 测量
• 光罩
• 精度
• 成本

提出了一种使用小尺寸MASK(光罩)的高精度曝光技术,能够实现1.5μm分辨率,几乎可以忽略的MASK成本。同时以曝光控制技术为基础,提出了一种快速进行TP/OL/CD精确测量的技术,为降低国产设备的测量使用成本提供了研究方向,同时提高了国产屏的性价比,可大幅降低单点测量时间和测量成本。

• 单位
  自动化学院; 上海大学